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              硅鋁靶

                產品說明

              以等離子體為熱源,在大氣環境下通過一定的氣氛保護裝置,將Si+Al粉末加熱到熔融或半熔融狀態并高速沖擊

              背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、低氧含量、高致密度SiAl靶材。

              項目

              參數

              檢測手段

              純度 (%)

              ≥99.9


              Al含量 (%)

              8-10


              密度 (g/cm3)

              ≥2.2

              阿基米德密度儀

              雜質含量

              (ppm)


              Fe: ≤350

              Ca: ≤50

              Cu: ≤50

              Mg: ≤20

              Ni: ≤20

              O: ≤6000  

              N: ≤500

              雜質總和(O、N除外): ≤1000

              ICP

              氧氮分析儀


              電阻率 (mΩ?cm)

              ≤50

              四探針電阻率儀

                靶材尺寸

              按照圖紙要求加工

                背管材質

              選用304/316L不銹鋼(無磁)

                應用領

              用于制作SiO?膜、Si?N4膜,主要用于光學玻璃AR膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導體電子器件,TFT-LCD,

              平面顯示,觸摸屏玻璃。


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